フィルトレーションテクノロジーのグローバルリーダー、ドナルドソン。

製品情報

ケミカル除去用フィルタ

ドナルドソンのケミカルフィルタは、塩基性ガス(アンモニア、アミン等)・酸性ガス(SO2、NO2等)・凝縮性有機物質(トルエン、PGMEA、NMP等)・有機ケイ素化合物(TMS、HMDSO、有機シロキサン等)といった分子状汚染物質(Airborne Molecular Contamination / AMC)を効果的に除去します。
半導体製造や各種開発実験/評価試験において要求される超清浄環境の実現やレンズ・光学系等の汚染による性能劣化防止にご使用いただけます。

配管接続タイプ(インラインケミカルフィルタ)

  • ChemCoreフィルタ

    リソガード POU フィルタ/LITHOGUARD® Point of Use Filter

    リンガードPOUフィルタは、配管に接続して使用するタイプのケミカルフィルタです。
    CDA(クリーンドライエア)や圧縮空気、その他、加圧された不活性ガス中の分子状汚染物質を効果的に除去します。
    特に、半導体製造や各種開発実験/評価試験において、より高い清浄度が求められるプロセス、レンズや光学系の保護に最適です。

     

      主な用途
    •  ・露光装置(半導体、液晶等)
    •  ・レーザーアニール装置
    •  ・エキシマレーザ発振器、光学系
    •  ・レーザー加工機
    •  ・レーザー計測装置
    •  ・実験・評価装置(ガス分析、電池、次世代エネルギー等)
    •  ・その他プロセス(パージ等)

キャビネット収納/機器搭載タイプ

  
  • リソガードLPSフィルタ

    リソガード LPS フィルタ/LITHOGUARD® LPS Filter

    リソガード LPSフィルタは、BSMmaxフィルタの除去性能を強化し、更なる長寿命化を実現したケミカルフィルタです。
    最先端プロセス向けの半導体製造装置を始め、超清浄環境が要求される設備・エリアへ供給する空気中の様々な分子状汚染物質(Airborne Molecular Contamination / AMC)の除去に最適です。

     

      主な用途
    •  ・半導体製造装置
    •  ・液晶製造装置
    •  ・クリーンルーム、クリーンブース

ケミカルフィルタシステム

  • Point-of-Use(POU)局所フィルタ

    リソガード-12/LITHOGUARD®-12

    ドナルドソンのリソガード-12は、キャビネット内にLPSフィルタまたはBSMmaxフィルタ12枚とHEPAフィルタ6枚を搭載したケミカルフィルタシステムです。半導体用露光装置や超清浄環境が必要とされる製造・実験設備等への空気供給ラインに設置してご使用いただけます。
    この他、HEPAフィルタがなく、リソガードBSMmaxフィルタを5枚、7枚搭載するシステムもご用意しております。


      主な用途
    •  ・半導体製造装置
    •  ・液晶製造装置
    •  ・クリーンルーム、クリーンブース

ご使用例 -半導体製造工場

  

工程内の様々なケミカルの除去に適したフィルタ及びシステムを提供します。

半導体フィルタ リソガード-12(BSMmax) POUフィルタ
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